art photonics中紅外硫化物玻璃光纖(CIR)以硫化砷為基底材料,適用于1.1~6.5μm的光纖傳輸。CIR彌補了石英光纖(0.2~2.4μm)與銀化物光纖(PIR)之間的空隙。CIR光纖有雙層聚合物涂層的纖芯/包層結構,能降低光學損耗,提高彈性。 所有的標準光纖都包括PEEK-聚…
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art photonics中紅外硫化物玻璃光纖(CIR)以硫化砷為基底材料,適用于1.1~6.5μm的光纖傳輸。CIR彌補了石英光纖(0.2~2.4μm)與銀化物光纖(PIR)之間的空隙。CIR光纖有雙層聚合物涂層的纖芯/包層結構,能降低光學損耗,提高彈性。 所有的標準光纖都包括PEEK-聚…